Photolithography

释义 Definition

光刻（光刻技术）：一种利用光把掩模（mask）上的图形转移到涂有光刻胶的材料表面（常见为硅片）的工艺，是半导体芯片与微纳制造的核心步骤之一。（在不同语境下也可指更广义的“光刻印刷/光致成像”工艺。）

发音 Pronunciation

/ˌfoʊtoʊlɪˈθɑːɡrəfi/

例句 Examples

Photolithography is used to make computer chips.
光刻技术用于制造计算机芯片。

By refining photolithography, engineers can pattern nanoscale circuits that power modern smartphones and data centers.
通过改进光刻工艺，工程师能够刻画纳米尺度的电路，为现代智能手机和数据中心提供动力。

词源 Etymology

该词由 **photo-**（“光、照片”，源自希腊语 phōs/phōt- “光”）+ **litho-**（“石、石版印刷”，源自希腊语 lithos “石头”）+ -graphy（“书写、记录/制法”，源自希腊语 -graphia）组成。早期与“石版印刷”有关，后来在微电子与制造业中引申为用光“写出/转印”微细图形的工艺。

相关词 Related Words

• Chip
• Circuit
• Etching
• Lithography
• Mask
• Nanotechnology
• Semiconductor
• Wafer

文学与著作 Literary Works

• Michael Riordan & Lillian Hoddeson, Crystal Fire: The Birth of the Information Age（提及集成电路与制造工艺背景，涉及光刻等关键步骤）
• John L. Hennessy & David A. Patterson, Computer Architecture: A Quantitative Approach（在讨论计算系统与芯片基础时，常提到制程与光刻的重要性）
• Vaclav Smil, Creating the Twentieth Century（讨论20世纪关键技术发展，涵盖微电子与制造技术语境中对光刻的提及）